ОПИСАНИЕ
Установка для нанесения покрытий методом магнетронного напыления с двумя мишенями оснащена двумя мишенями магнетрона и двумя комплектами источников питания постоянного тока, которые можно использовать для нанесения покрытия на многослойные проводящие металлические пленки. При этом оборудование состоит из двух частей: основной камеры и переходной камеры. Переходная камера снабжена магнитным толкателем, а между двумя камерами установлена вакуумная задвижка; Пользователь может загружать образцы в переходную камеру, одновременно выполняя работы по распылению в основной камере, и выполнять предварительную вакуумную откачку. После завершения распыления в основной камере образец можно протолкнуть в предметный столик основной камеры через магнитный толкатель. Такая конструкция позволяет сократить количество вакуумных откачек в основной камере, что не только эффективно экономит время, но и обеспечивает лучший локальный вакуум и эффективно улучшает качество покрытия.
ПРИМЕНЕНИЕ
Установка для нанесения покрытий с магнетронным напылением с двумя мишенями , которое можно использовать для подготовки тонких металлических пленок. Он находит применение в области электроники, оптики и специальной подготовки керамики. Его также можно использовать для лабораторной подготовки образцов SEM.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
| Требования к размещению |
-
Электропитание оборудования: 220В, 50Гц, обязательно заземление(!);Н
-
Номинальная мощность: 5кВт;
-
Газовая среда: рабочая камера должна быть заполнена аргоном с чистотой ≥99,99%;
-
Габариты: 1200мм×1200мм×2000мм;
-
Место размещения требует хорошей вентиляции и отвода тепла.
|
| Технические характеристики |
-
Источник питания для напыления: источник постоянного тока 500 Вт x 2; максимальное выходное напряжение 600 В, предельный выходной ток 1000 мА
-
Мишень магнетрона: 2" дюма сбалансированная мишень с магнитной разделительной муфтой;
-
Применимый материал мишени: проводящий металлический материал Ø50 мм x 3 мм толщиной;
-
Размер камеры: основная камера Ø325 мм x 410 мм; переходная камера 150х150х150мм
-
Функционал камеры: Основная камера оснащена боковой дверью, герметизированной уплотнительным кольцом, кварцевым смотровым окном с перегородкой и ручным приводом для переноса образцов. Переходная камера снабжена верхней крышкой с кварцевым окном, герметизированным уплотнительным кольцом, толкателем магнитной муфты для транспортировки образцов в основную камеру и независимой вакуумной системой.
-
Материал полости: нержавеющая сталь 304.
-
Вращающийся нагревательный стол для образцов: регулируемая скорость 1-20 об/мин; температура нагрева до 500°С, скорость нагрева (рекомендуемая) 10°С/мин, максимальная скорость нагрева 20°С/мин.
-
Метод охлаждения: цель магнетрона и молекулярный насос нуждаются в рециркуляционной охлаждающей системе (чиллер);
-
Чиллер: объем резервуара для воды 9 л, скорость потока 10 л/мин.
-
Система газоснабжения: массовый расходомер, тип газа Ar, скорость потока 1~200см3 (настраиваемый);
-
Точность расходомера: диапазон ± 1,5%.
-
Интерфейс откачки вакуумной камеры CF160;
-
Интерфейс воздухозаборника представляет собой соединение с двойным обжимным кольцом 1/4 дюйма;
-
Дисплей представляет собой 14" промышленный компьютер «All-in-One»;
-
Ток распыления можно регулировать, а также можно установить безопасное значение тока распыления и безопасное значение вакуума;
-
Система безопасности: Ток распыления будет автоматически отключен при перегрузке по току, слишком низком вакууме;
-
Вакуумная система: основная камера оснащена высокомакуумным молекулярным насосом со скоростью откачки 600 л/с; переходная камера оснащена небольшим молекулярным насосом со скоростью откачки 60 л/с. Два комплекта вакуумных систем могут работать и управляться независимо друг от друга, а пневматические клапаны между камерами и в вакуумной системе управляются программно, выполняются в режиме "одной кнопки", что удобно и быстро.
-
Предельный вакуум: 5E-4Pa (с молекулярным насосом);
-
Измерение вакуума представляет собой составной вакуумметр, диапазон: 10-5 Па-105 Па.
|
| Меры предосторожности |
- Для достижения более высокой бескислородной среды вакуумную камеру необходимо очищать инертным газом высокой чистоты не менее 3 раз.
- Магнетронное распыление более чувствительно к объему всасываемого воздуха, и для контроля объема всасываемого воздуха необходимо использовать массовый расходомер.
- Держите полость в вакууме, когда оборудование не используется.
- Если установка не откачивалась в течение длительного времени, ее следует дегазировать перед повторным использованием, чтобы улучшить характеристики вакуума.
|
| Дополнительные аксессуары |
| Измерение толщины пленки |
-
Разрешение по толщине пленки: 0,0136Å (алюминий)
-
Точность измерения: ± 0,5%, в зависимости от условий процесса, особенно положения датчика, напряжения материала, температуры и плотности.
-
Скорость измерения: 100мс-1 с/время, диапазон измерения может быть установлен: 500000Å (алюминий)
-
Частота кристалла: 6 МГц
-
Применимая частота чипа: 6 МГц. Применимый размер чипа: Ø14 мм. Монтажный фланец: CF35.
|
| Дополнительные аксессуары |
- Высокопроизводительный молекулярный насос серии CY-CZK103 (включая составной вакуумметр, диапазон измерения 10-5 Па ~ 105 Па);
- Комплект малых молекулярных насосов серии CY-GZK60 (включая составной вакуумметр, диапазон измерения 10-5 Па~102 Па)
- двухполюсный пластинчато-роторный вакуумный насос VRD-4;
- Вакуумный сильфон KF25/40; длина может быть 0,5м, 1м, 1,5м; Зажимной кронштейн KF25
- Кварцевый генератор толщиномера пленки;
|
